China a făcut un nou pas major în cursa globală pentru cipuri avansate. Într-un laborator din Shenzhen, cercetători chinezi au construit un prototip funcțional de mașină de litografie cu ultraviolete extreme, cunoscută drept EUV, o tehnologie considerată până acum monopol occidental. Informația, dezvăluită de Reuters, sugerează că Beijingul este mai aproape decât se anticipa de producția internă de cipuri pentru inteligență artificială și aplicații militare.
Prototipul a fost finalizat la începutul anului 2025 și ocupă aproape un etaj întreg de fabrică. Conform mai multor surse citate de Reuters, mașina a fost construită de o echipă formată din foști ingineri ai companiei olandeze ASML, singura firmă din lume care produce comercial sisteme EUV. Aceștia ar fi reușit să reproducă componentele critice ale tehnologiei, folosind inclusiv piese provenite din echipamente mai vechi.
Mașinile EUV se află în centrul competiției tehnologice dintre China și Occident. Ele folosesc lumină ultravioletă pentru a grava circuite de dimensiuni nanometrice pe plachete de siliciu, permițând realizarea celor mai performante cipuri pentru AI, smartphone-uri și sisteme de armament. Până acum, această capacitate a fost controlată strict de statele occidentale, prin ASML și furnizorii săi europeni și japonezi.
Reuters precizează că prototipul chinez generează deja lumină EUV, dar nu a produs încă cipuri funcționale. Chiar și așa, existența unui sistem operațional contrazice estimările anterioare ale industriei, potrivit cărora China ar avea nevoie de cel puțin un deceniu pentru a ajunge din urmă Vestul.
Un proiect strategic, coordonat de stat
Inițiativa face parte dintr-un program guvernamental lansat în urmă cu aproximativ șase ani, axat pe autosuficiența în semiconductori, una dintre prioritățile strategice ale președintelui Xi Jinping. Proiectul din Shenzhen a fost ținut strict secret și este coordonat la nivel înalt, cu implicarea directă a Huawei, care ar superviza colaborarea dintre institute de cercetare și companii din întreaga țară.
Sursele descriu proiectul drept echivalentul chinez al „Manhattan Project”, programul american care a dus la dezvoltarea bombei atomice. Obiectivul final este eliminarea completă a dependenței de lanțurile de aprovizionare occidentale în producția de cipuri avansate.
Deși progresul este semnificativ, China se confruntă în continuare cu dificultăți majore, în special în zona opticii de precizie, unde furnizori precum Carl Zeiss joacă un rol esențial pentru ASML. Guvernul chinez ar fi stabilit ca țintă producerea de cipuri funcționale pe acest prototip până în 2028, însă surse apropiate proiectului consideră anul 2030 un termen mai realist.
Chiar și acest scenariu ar însemna o accelerare substanțială față de estimările analiștilor, care mizau pe un decalaj de cel puțin un deceniu. Dacă proiectul va avea succes, implicațiile geopolitice și economice vor fi majore, în contextul restricțiilor impuse de Statele Unite și aliații săi asupra exporturilor de tehnologie avansată către China.
Existența prototipului EUV arată limitele controalelor la export într-o lume în care know-how-ul poate fi replicat, chiar dacă implică niște costuri enorme. Deși China nu este încă pregătită să producă cipuri EUV la scară industrială, direcția este clară: Beijingul investește masiv pentru a reduce dependența de Vest într-un domeniu considerat vital pentru viitorul economic și militar.
